在适用于 iOS 应用程序的 OpenGL ES 2.0 中使用遮罩

Question

我有一个应用程序，我希望用户在屏幕的某个特定区域进行绘制。为此，我使用了一张蒙版图片，该图片在可绘制区域为黑色，在不可绘制区域为透明。因此，用户只能在遮罩内部和遮罩黑色区域内部的屏幕区域上进行绘制。

我尝试通过模板缓冲区来实现它，并修改了 GLPaint 示例项目中的一些代码： http://pastebin.com/94MBr1Su< /a>

但是我仍然不明白模板缓冲区的使用。任何人都可以帮我解决我的问题的模板缓冲区的代码示例吗？另外，有没有办法在没有模板缓冲区的情况下实现这一点？

Answer 1

因为您的蒙版是纹理，所以模板缓冲区不是一个好主意。

• 在遮罩渲染期间，必须使用“discard;”对于片段着色器中的透明像素，
• 请说欢迎遇到抗锯齿问题。

出于您的好奇心，这里有一些使用模板缓冲区配置蒙版的代码：

const bool invert_mask = false; // allow to draw inside or outside mask
unsigned mask_id = 1; // you can use this code multiple time without clearing stencil, just increment mask_id

glEnable(GL_STENCIL_TEST);
// write on stencil_mask
glStencilOp(GL_KEEP, GL_KEEP, GL_REPLACE);
glStencilFunc(GL_ALWAYS, mask_id, 0);

// remove depth test and color writing
glDepthMask(GL_FALSE);
glColorMask(GL_FALSE, GL_FALSE, GL_FALSE, GL_FALSE);


// TODO: draw geometry of mask here. (if you use a texture, dont forget to use discard in the shader 


// enabled depth & color writing
glColorMask(GL_TRUE, GL_TRUE, GL_TRUE, GL_TRUE);
glDepthMask(GL_TRUE);

// no stencil write
glStencilOp(GL_KEEP, GL_KEEP, GL_KEEP);
// test stencil value
glStencilFunc(invert_mask ? GL_NOTEQUAL : GL_EQUAL, mask_id, 0xff);


// TODO: draw  "clipped" geometry here


// finally, remove stencil test
glDisable(GL_STENCIL_TEST);

最简单的方法是根本不使用模板。创建一个灰度屏幕大小的纹理，在里面写下你的蒙版。然后将其绑定到片段着色器中：

uniform LOW_P sampler2D u_diffuse_sampler;
uniform LOW_P sampler2D u_mask_sampler;
varying mediump vec2 v_texcoord;

void main(void) {
    gl_FragColor = texture2D(u_diffuse_sampler, v_texcoord) * texture2D(u_mask_sampler, v_texcoord).r;
}