Question

粒子阵列粒子系统可将粒子分布在几何体对象上。也可用于创建复杂的对象爆炸效果。

• “创建”面板 （几何体） 从下拉列表中选择“粒子系统”。 “对象类型”卷展栏 “粒子阵列”
• “创建”菜单 “粒子” “粒子阵列”

提示使用“粒子阵列”创建爆炸效果的一种好方法是：将粒子类型设置为“对象碎片”，然后应用“粒子爆炸空间扭曲”。

如果使用“粒子阵列”发射粒子，并且使用选定几何对象作为用来发射的发射器模板（或图案）时，该对象称为分布对象。

用作分布对象的篮筐，粒子在其表面上随机分布

粒子在对象上的分布方式：

左：边

中心：顶点

右：面

过程

要设置粒子阵列，请执行以下操作：

1. 创建将作为分布对象的对象，为粒子阵列提供发射器图案（或爆炸对象）。
2. 在 “创建”面板上，确保 （几何体）已激活，并在对象类别列表中选择了“粒子系统”，然后单击“粒子阵列”。
3. 在视口中的任意位置拖动以创建粒子系统对象；请参见创建粒子发射器。
4. 在“基本参数”卷展栏上，单击“拾取对象”，然后单击要作为分布对象使用的对象。
5. 在“粒子阵列”卷展栏上调整各个选项，以达到所需的效果。

   分布对象可以是包含可渲染面的任意对象。

   粒子系统对象不会在渲染场景中出现。其在场景中的位置、方向和大小不会影响粒子效果。要在创建后访问粒子阵列的参数，请打开“修改”模板，然后选择粒子系统对象（或在视口中单击任意可见的粒子）。要转换或修改分布对象，请选择分布对象自身。

   此外，还可以在多个粒子系统对象之间共享一个分布对象。分布对象仅为粒子提供模板，粒子系统实际生成的是粒子。

示例：为碎片指定三种不同的贴图材质：

1. 将贴图坐标应用于分布对象，方法是启用“生成贴图坐标”（如有必要）或应用 UVW 贴图修改器。
2. 为分布对象指定多维/子对象材质。
3. 将前三种子材质设置为贴图材质。
4. 选择“粒子阵列”图标。
5. 在“材质贴图和来源”组中的“粒子类型”卷展栏上，选择“拾取的发射器”。
6. 在“粒子类型”卷展栏 “粒子类型”组中，启用“对象碎片”。
7. 确保“碎片材质”组中的三个微调器分别设置为 1、2 和 3（或将这些数值与在多维/子对象材质中指定的子材质相匹配）。 提示如果对对象碎片粒子使用复杂的分布对象，可能会大大减慢视口交互作用的速度。可以使用简单的替代对象作为分布对象，以后再使用“文件”/“替换”命令将分布对象替换为同名的较复杂对象。

请参见

• 粒子系统用法
• 对粒子阵列使用材质
• 实现粒子运动模糊
• 对粒子系统使用贴图材质
• 对粒子系统使用多维/子对象材质
• 使用繁殖粒子
• 使用粒子碰撞

本节内容

• “基本参数”卷展栏（粒子阵列）

  使用“基本参数”卷展栏上的项，可以创建和调整粒子系统的大小，并拾取分布对象。此外，还可以指定粒子相对于分布对象几何体的初始分布，以及分布对象中粒子的初始速度。在此处也可以指定粒子在视口中的显示方式。

• “粒子生成”卷展栏（粒子阵列）

  此卷展栏上的项控制粒子产生的时间和速度、粒子的移动方式以及不同时间粒子的大小。

• “粒子类型”卷展栏（粒子阵列）

  使用此卷展栏上的控件可以指定所用的粒子类型，以及对粒子执行的贴图的类型。

• “旋转和碰撞”卷展栏（粒子阵列）

  粒子经常高速移动。在这样的情况下，可能需要为粒子添加运动模糊以增强其动感。此外，现实世界的粒子通常边移动边旋转，并且互相碰撞。

• “对象运动继承”卷展栏（粒子阵列）

  每个粒子移动的位置和方向由粒子创建时发射器的位置和方向确定。如果发射器穿过场景，粒子将沿着发射器的路径散开。

• “气泡运动”卷展栏（粒子阵列）

  “气泡运动”提供了在水下气泡上升时所看到的摇摆效果。通常，将粒子设置为在较窄的粒子流中上升时，会使用该效果。气泡运动与波形类似，气泡运动参数可以调整气泡“波”的振幅、周期和相位。

• “粒子繁殖”卷展栏（粒子阵列）

  “粒子繁殖”卷展栏上的选项可以指定粒子消亡时或粒子与粒子导向器碰撞时，粒子会发生的情况。使用此卷展栏上的选项可以使粒子在碰撞或消亡时繁殖其他粒子。

• “加载/保存预设”卷展栏（粒子阵列）

  使用以下选项可以存储预设值，以便在其他相关的粒子系统中使用。例如，在设置了粒子阵列的参数并使用特定名称保存后，可以选择其他粒子阵列系统，然后将预设值加载到新系统中。